微導納米發布2大重磅新品：第一代iTronix?系列CVD薄膜沉積設備

　　6月29日，全球最大規模、最具影響力的半導體盛會——SEMICON China 2023在上海精彩揭幕?；顒蝇F場，江蘇微導納米科技股份有限公司（股票代碼688147，簡稱“微導納米”）攜2大重磅新品亮相，正式發布了公司自主研發的第一代iTronix®系列CVD薄膜沉積設備。這標志著微導納米在半導體薄膜沉積領域取得又一新突破，也是公司多元化布局激活增長新動能的關鍵一步。

　　iTronix® PE系列等離子體增強化學氣相沉積鍍膜系統，可沉積相應不同種類薄膜，可應用于邏輯、存儲、先進封裝、顯示器件以及化合物半導體等領域的芯片制造。同時，該新型平臺可安裝更多反應腔以滿足高產能需求。

　　iTronix® LP系列低壓化學氣相沉積鍍膜系統，采用特別設計的反應腔室和電氣軟件集成化服務，在邏輯芯片、DRAM芯片、NAND芯片等領域具有廣泛應用，可滿足SiGe、p-Si、doped a-Si、SiO2、SiN等薄膜沉積工藝的開發與應用需求。

　　作為國內原子層沉積（ALD）技術的龍頭企業，微導納米深耕高端薄膜沉積設備領域多年，ALD產品營收規模方面位居國內同類企業第一，多款半導體ALD設備覆蓋邏輯、存儲、化合物半導體、新型顯示等細分應用領域，關鍵工藝指標已達到國際先進水平。

　　創新驅動，引領未來。微導納米此次推出的iTronix® 系列CVD薄膜沉積設備，是公司創新之路的又一里程碑，大大豐富了產品矩陣，奠定了公司以ALD技術為核心，CVD等多種真空薄膜技術梯度發展的戰略定位。目前，微導納米iTronix® 系列CVD薄膜沉積設備已獲得客戶訂單，設備驗證進展順利。未來，微導納米將為客戶提供更多選擇、更卓越的定制化解決方案，在薄膜沉積設備領域持續發力。